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Toppan Photomasks 核準在中國投入全新 65 納米至 14 納米的先進技術及產能計劃

作者:admin 來源:不詳 發(fā)布時間:2018-01-05  瀏覽:24

全球業(yè)界首選光罩合作伙伴Toppan Photomasks, Inc.(TPI)10日宣布核準對近期擴建的中國上海廠的下一階段投資計劃;該廠由TPI獨資子公司ToppanPhotomasks Company Limited, Shanghai(TPCS)營運。TPI將對此工廠再投資8,000萬美元以展現(xiàn)其對中國快速成長的半導體產業(yè)及客戶的長期承諾。TPI先前已投資2,000萬美元擴建上海二廠(TPCSShanghai II);該廠現(xiàn)已量產并且為中國唯一提供全方位技術及產品的商業(yè)光罩廠。

TPI CEO Mike Hadsell表示:“相較于其他供應商,上海廠除了提供中國客戶縮短兩天周期的優(yōu)勢外,并有利于加速客戶攻占市場的時效。今天的宣布除了以上優(yōu)勢,并擴大光罩生產能力至28納米。上海廠的先進技術也將更進一步延伸至14納米,以符合中國半導體市場快速演進的需求。此外,上海廠區(qū)也有足夠的擴建空間以支持客戶在未來10年甚至更長遠的產能需求!

甫擴展的上海二廠坐落于目前公司營運地(上海漕河涇開發(fā)區(qū)),除了擁有先進的一級無塵室及設備外,并有利于下一階段的擴展計劃。此階段的生產能力及技術將聚焦于65至14納米的邏輯與先進內存(DRAM及NAND)。待今日宣布的計劃完成后,仍將有40%的無塵室空間以做為日后擴展所需。



編輯:admin  最后修改時間:2018-01-05

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